植田 和茂 | 東工大応セラ研

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概要

• 同名の論文著者
• 東工大応セラ研の論文著者

関連著者

• 植田 和茂

  東工大応セラ研

• 植田 和茂

  科学技術振興機構(jst):戦略的創造研究推進事業継続研究(erato-sorst):東京工業大学フロンティア創造共同研究センター(fcrc):九州工業大学工学部物質工学科

• 細野 秀雄

  東工大応セラ研:erato-sorst Jst:東工大フロンティア研究センター

• 折田 政寛

  KSP C-1232 細野透明電子活性プロジェクト

• 鈴木 敏之

  (財)ファインセラミックスセンター(jfcc)

• 太田 裕道

  科技団透明電子活性PJ

• 平松 秀典

  科技団透明電子活性PJ

• 折田 政寛

  科技団透明電子活性PJ

• 平野 正浩

  科技団透明電子活性PJ

• 野村 研二

  東工大応セラ研

• 鈴木 敏之

  JFCC

• 幾原 雄一

  東大工

• 平松 秀典

  Erato-sorst Jst

• 柳 博

  東工大応セラ研

• 太田 裕道

  科技団ERATO

• 平野 正浩

  科技団ERATO

• 八木 巌

  東工大応セラ研

• 溝口 拓

  科技団ERATO

• 折田 政寛

  科技団ERATO

• 植田 尚之

  分子研

• 細野 秀雄

  分子研

• 川副 博司

  東工大応セラ研

• 川副 博司

  東京工業大学応用セラミクス研究所

• 植田 尚之

  東京工業大学応用セラミックス研究所:(現)ソニー(株)中央研究所

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著作論文

• 2J20 インスタント固相エピタキシャル法による自然超格子酸化物 InGaO_3(ZnO)_m 単結晶薄膜の作製 (II)
• 2J19 インスタント固相エピタキシャル法による自然超格子酸化物 InCaO_3(ZnO)_m 単結晶薄膜の作製 (I)
• 1E25 透明酸化物半導体のバンドラインナップの作成 : 統一的理解にむけて
• 30p-E-2 Ca_Y_xTiO_3及びCaTi_Nb_xO_3単結晶のキャリア補償・生成

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