大森 浩太 | トーケム

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概要

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• 阿部 隆

  名古屋工業技術研究所

• 阿部 隆

  名古屋工技研

• 早川 由夫

  名古屋工業技術研究所

• 早川 由夫

  名古屋工技研

• 林 永二

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• 村井 幸一

  秋田大鉱山

• 村井 幸一

  Department Of Fuel Chemistry Mining College Akita University

• 深谷 治彦

  名古屋工業技術研究所

• 林 永二

  国立名工研

• 早川 由夫

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• 阿部 隆

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• 大森 浩太

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• 大森 浩太

  株式会社トーケムプロダクツ開発本部研究開発部

• 寺沢 直弘

  名古屋工業技術研究所

• 寺沢 直弘

  国立名工研

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著作論文

• 1D11 含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用した新規液晶性化合物の合成
• 1C04 含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用したビフェニル系液晶化合物の合成
• 2G407 新規不斉含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用した液晶性化合物の合成と光学分割

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