深谷 治彦 | 名古屋工業技術研究所
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概要
関連著者
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深谷 治彦
名古屋工業技術研究所
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林 永二
名古屋工業技術研究所
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阿部 隆
名古屋工業技術研究所
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阿部 隆
名古屋工技研
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早川 由夫
名古屋工業技術研究所
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早川 由夫
名古屋工技研
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小野 泰蔵
名古屋工業技術研究所
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村井 幸一
秋田大鉱山
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村井 幸一
Department Of Fuel Chemistry Mining College Akita University
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寺沢 直弘
名古屋工業技術研究所
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林 永二
国立名工研
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早川 由夫
国立名工研
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深谷 治彦
国立名工研
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阿部 隆
国立名工研
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大森 浩太
トーケム
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大森 浩太
株式会社トーケムプロダクツ開発本部研究開発部
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三木 健
名古屋工業技術研究所
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京兼 純
奈良工業高等専門学校電気工学科
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京兼 純
明石工業高等専門学校
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沢田 英夫
奈良工業高等専門学校
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西田 雅一
名古屋工業技術研究所
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李 京浩
奈良工業高等専門学校
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寺沢 直弘
国立名工研
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Kyokane J
Nara National Coll. Technol.
著作論文
- ペルフルオロアルカンおよびペルフルオロジアセチレンLB膜の表面および電気的性質
- ペルフルオロカン累積膜の表面特性
- 1D11 含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用した新規液晶性化合物の合成
- オゾン層を破壊しない代替ハロンの開発
- 含フッ素ビフェニル系液晶化合物の開発
- ペルフルオロビニルアミンとペルフルオロアルキルハイポクロリトとの反応--半経験的分子軌道法による位置選択性の考察 (計算機支援材料設計特集)
- ハロン代替物質の開発と消火能力評価に関する研究 (平成8年度特別研究終了報告特集)
- フッ素系光学活性液晶材料の開発に関する研究 (平成8年度特別研究終了報告特集)
- 1C04 含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用したビフェニル系液晶化合物の合成
- 2G407 新規不斉含窒素ペルフルオロカルボン酸を利用した液晶性化合物の合成と光学分割
- 大きな分子も精度よく計算--IMOMM法による有機金属触媒反応の理論的考察 (1998年の化学--第一線化学者による最新のトピックス)
- 環式アミノ基を有するペルフルオロカルボン酸アルカリ金属塩の熱分解
- ハロン代替物質の開発 (地球環境特集)
- 極安定ペルフルオロアルキルラジカル(perfluoro-3-ethyl-2,4-dimethyl-3-pentyl)の熱分解反応
- 19F-NMRイメ-ジングのための含フッ素プロ-ブの合成(1)C2V対称を有する3,5-bis(hexafluoro-2-hydroxy-2-propyl)benzene及び3,5-bis(hexafluoro-2-methoxy-2-propyl)benzene誘導体の合成
- 含窒素ペルフルオロアルコキシドアニオンの求核反応性--半経験的分子軌道法による考察