大塚 祐二 | 東レリサーチセンター

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概要

• 同名の論文著者
• 東レリサーチセンターの論文著者

関連著者

• 大塚 祐二

  株式会社東レリサーチセンター

• 大塚 祐二

  東レリサーチセンター

• 大門 寛

  奈良先端大

• 染田 政明

  奈良先端大・物質創成

• 川崎 直彦

  株式会社東レリサーチセンター

• 服部 賢

  奈良先端大

• 小川 真一

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 村田 幸夫

  東レリサーチセ

• 村田 幸夫

  (株)東レリサーチセンター形態科学研究部

• 川瀬 昇

  東レリサーチセンター

• 久留島 康輔

  東レリサーチ

• 小川 真一

  産業技術総合研究所

• 迫 秀樹

  東レリサーチセンター形態科学研究部

• 川崎 直彦

  東レリサーチセンター形態科学研究部

• 太田 啓介

  奈良先端大

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著作論文

• 電子線ナノプローブを用いた局所領域のEELS解析
• 低誘電率材料の価電子EELSを用いた誘電率測定
• 26pJB-9 Si(001)表面上に成長したFeシリサイドナノシートのTEM観察(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

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