原田 義也 | 聖徳大

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概要

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関連著者

• 原田 義也

  聖徳大

• Ueno Nobuo

  Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Chiba University

• 解良 聡

  千葉大融合科学

• 原田 義也

  千葉大学工学部

• 広瀬 英一

  富士ゼロックス株式会社

• 青木 優

  東京大学総合文化研究科

• 上野 信雄

  千葉大工

• 奥平 幸司

  千葉大学工学部

• 奥平 幸司

  千葉大工

• 上野 信雄

  千葉大融合科学

• 解良 聡

  千葉大工

• 上野 信雄

  千葉大学工学部

• 小野 好之

  富士ゼロックス基盤技術研

• 小野 好之

  富士ゼロックス株式会社

• 小野 好之

  富士ゼロックス(株)dsmc Egov戦略推進室

• 青木 優

  東大院総合文化

• 青木 優

  東大院総合

• 解良 聡

  千葉大学工学部

• 山根 宏之

  千葉大工

• 関谷 徹司

  広島大学大学院理学研究科物理科学専攻

• 原田 義也

  千葉大工

• 伊藤 一行

  千葉大工

• 原田 義也

  聖徳大生活文化

• 関谷 徹司

  広大院理

• 青木 優

  東京大学大学院総合文化研究科

• 増田 茂

  東大院総合文化

• 山本 周平

  千葉大工

• 田中 健一郎

  広島大学大学院理学研究科

• 丸山 純矢

  千葉大工

• 瀬戸山 寛之

  九州シンクロトロン光研究センター

• 田中 健一郎

  高エネルギー物理学研究所・放射光実験施設

• 瀬戸山 寛之

  千葉大学工学部

• 島田 広道

  物質研

• 神谷 幸司

  千葉大学工学部

• 東 康史

  千葉大学 工学部・大学院自然科学研究科

• 佐藤 克洋

  富士ゼロックス基盤技術研

• 東 康史

  分子研

• 栗原 努

  千葉大工

• 岩崎 昭宏

  千葉大工

• 岩澤 和明

  千葉大工

• 木村 健一郎

  千葉大工

• 瀬戸山 寛之

  千葉大工

• 関谷 徹司

  広大理

• 田中 健一郎

  広大理

• 藤井 健太郎

  広大理

• 丸山 純矢

  千葉大学工学部

• Tinohe Marcia.c.k

  総合研究大学院大学

• 関谷 徹司

  高エネルギー物理学研究所

• 藤井 健太郎

  広島大理

• 増田 茂

  東大院総合

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著作論文

• 24pPSA-43 in-PTCDAシステムの電子状態と界面形成過程の研究
• 24pPSA-39 低速電子透過法による界面ポテンシャル構造の研究 : 電子透過構造の原因
• ぺニングイオン化電子分光法による薄膜表面分析
• 31a-F-1 有機超薄膜表面におけるヘリウム励起原子のsinglet-triplet conversion
• ぺニングイオン化電子分光法による薄膜表面分析
• 内殻電子励起による高分子のエネルギー依存反応 : 重水素化ポリスチレン
• 内殻電子励起による高分子薄膜の位置選択的結合切断 : パルス放射光励起イオンTOF法による測定
• ぺニングイオン化電子分光法による薄膜表面分析
• ぺニングイオン化電子分光法による薄膜表面分析

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