鈴木 太陽 | 東京工業大学応用セラミックス研究所:crest-jst
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概要
関連著者
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真島 豊
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
田中 健太郎
名古屋大学
-
寺西 利治
筑波大院数理物理科学研究科化学専攻
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東 康男
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
鈴木 太陽
東京工業大学応用セラミックス研究所
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山田 泰之
名古屋大学大学院理学研究科
-
金原 正幸
筑波大学大学院数理物質科学研究科
-
寺西 利治
筑波大学大学院数理物質科学研究科
-
東 康男
東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻
-
金原 正幸
筑波大院数理物質科学研究科化学専攻:crest-jst
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山田 泰之
名古屋大学大学院理学研究科:crest-jst
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田中 健太郎
名古屋大学大学院理学研究科:crest-jst
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鈴木 太陽
東京工業大学応用セラミックス研究所:crest-jst
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真島 豊
東京工業大学
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東 康男
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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金原 正幸
筑波大院数理物理科学研究科化学専攻
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真島 豊
東京工業大学応用セラミックス研究所:crest-jst
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真島 豊
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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東 康男
東京工業大学応用セラミックス研究所:crest-jst
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金原 正幸
筑波大学大学院数理物質科学研究科:CREST-JST
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寺西 利治
筑波大学大学院数理物質科学研究科:CREST-JST
著作論文
- ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減(材料デバイスサマーミーティング)
- ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減(材料デバイスサマーミーティング)
- ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減(材料デバイスサマーミーティング)