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渡邉 桂 | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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渡邉 桂
(株)東芝セミコンダクター社
渡邉 桂
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渡邉 桂
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター
著作論文
45nm node向け塗布ポーラスlow-k膜の材料設計(配線・実装技術と関連材料技術)
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