HASSELKAMP Dietmar | Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
Meyer B
Justus-liebig‐univ. Giessen Giessen Deu
-
Kramer Thorsten
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
MEYER Bruno
Physics Institute, Justus-Liebig-University Giessen
-
HE Yunbin
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
-
KRIEGSEIS Wilhelm
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
-
POLITY Angelika
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
-
HASSELKAMP Dietmar
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
-
Kriegseis Wilhelm
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
He Yunbin
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
Hasselkamp Dietmar
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
Polity Angelika
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
Meyer Bruno
Physics Institute Justus-liebig-university Giessen
-
Meyer B.
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
BLASING Jurgen
InsrirurfiJr Experimentelle Physik, Otro-von-Guericke Universirdr
-
HARDT Martin
Zenrrale Biorechnische Betriebseinheit
-
KROST Alois
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
-
OSTERREICHER Ingo
Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen
-
GREGOR Ralf
Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen
-
Gregor Ralf
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
-
Krost Alois
Physikalisches Institut Jusrus-liebig-universitiit Giessen
-
Blasing Jurgen
Insrirurfijr Experimentelle Physik Otro-von-guericke Universirdr
-
Osterreicher Ingo
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
著作論文
- (001)-Textured Cu_2S Thin Films Deposited by RF Reactive Sputtering
- Highly (112)-Oriented CulnS_2 Thin Films Deposited by a One-Stage RF Reactive Sputtering Process : Surfaces, Interfaces, and Films