Kramer Thorsten | Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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概要
関連著者
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Meyer B
Justus-liebig‐univ. Giessen Giessen Deu
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Kramer Thorsten
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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MEYER Bruno
Physics Institute, Justus-Liebig-University Giessen
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HE Yunbin
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
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KRIEGSEIS Wilhelm
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
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POLITY Angelika
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
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HASSELKAMP Dietmar
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
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Kriegseis Wilhelm
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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He Yunbin
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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Hasselkamp Dietmar
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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Polity Angelika
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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Meyer Bruno
Physics Institute Justus-liebig-university Giessen
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Meyer B.
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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BLASING Jurgen
InsrirurfiJr Experimentelle Physik, Otro-von-Guericke Universirdr
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HARDT Martin
Zenrrale Biorechnische Betriebseinheit
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KROST Alois
Physikalisches Institut, Jusrus-Liebig-Universitiit Giessen
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OSTERREICHER Ingo
Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen
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GREGOR Ralf
Physikalisches Institut, Justus-Liebig-Universitat Giessen
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Gregor Ralf
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
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Krost Alois
Physikalisches Institut Jusrus-liebig-universitiit Giessen
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Blasing Jurgen
Insrirurfijr Experimentelle Physik Otro-von-guericke Universirdr
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Osterreicher Ingo
Physikalisches Institut Justus-liebig-universitat Giessen
著作論文
- (001)-Textured Cu_2S Thin Films Deposited by RF Reactive Sputtering
- Highly (112)-Oriented CulnS_2 Thin Films Deposited by a One-Stage RF Reactive Sputtering Process : Surfaces, Interfaces, and Films