清原 健司 | 産業技術総合研究所 人間系特別研究体

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概要

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• 産業技術総合研究所 人間系特別研究体の論文著者

関連著者

• 清原 健司

  産総研

• 清原 健司

  産業技術総合研究所 人間系特別研究体

• 清水 洋

  産業技術総合研究所関西センターナノテクノロジー研究部門

• 物部 浩達

  産業技術総合研究所関西センターナノテクノロジー研究部門

• 寺澤 直弘

  産総研ユビキタス

• 清水 洋

  産総研人間系

• 物部 浩達

  産総研人間系

• 清原 健司

  産総研人間系

• 寺澤 直弘

  産総研人間系

• 粟津 邦男

  大阪大学大学院工学研究科環境・エネルギー工学専攻

• 粟津 邦男

  大阪大学大学院工学研究科自由電子レーザー研究施設

• 粟津 邦男

  大阪大学大学院 工学研究科環境・エネルギー工学専攻

• 清水 洋

  産総研関西ユビキタスエネルギー研究部門

• 粟津 邦男

  阪大院工fel研

• 部谷 学

  阪大院工fel研

• 清原 健司

  産総研・人間系

• 清水 洋

  産総研・人間系

• 中村 尚武

  立命館大・理工

• 物部 浩達

  産総研関西ユビキタス

• 瀬戸口 善宏

  産総研ユビキタス

• 寺澤 直弘

  産総研関西センター人間系

• 清原 健司

  産総研関西センター人間系

• 物部 浩達

  産総研・人間系

• 寺澤 直弘

  産総研・人間系

• 太田 浩二

  産総研・光部門

• 清水 洋

  産総研関西ユビキタス

• 部谷 学

  大阪大学大学院工学研究科自由電子レーザー研究施設光量子プロセス工学講座

• 物部 浩達

  産業技術総合研究所

• 内田 欣吾

  龍谷大理工

• 相田 卓三

  東京大学大学院工学系研究科

• 福島 孝典

  独立行政法人理化学研究所 フロンティア研究システムチーム

• 安積 欣志

  産総研

• 竹内 一郎

  産総研

• 向 健

  産総研

• 杉野 卓司

  産総研

• 白石 壮志

  群大

• 福島 孝典

  東大院工

• 相田 卓三

  東大院工

• 安積 欣志

  独立行政法人 産業技術総合研究所セルエンジニアリング研究部門 人工細胞研究グループ

• 藤平 正道

  東京工業大学大学院生命理工学研究科

• 内田 欣吾

  龍谷大 理工

• 万 文

  産総研ユビキタス

• 中村 尚武

  立命大院理工

• ベノア ハインリッヒ

  ストラスブール材料物理・化学研究所

• ダニエル ギヨン

  ストラスブール材料物理・化学研究所

• 瀬戸口 善宏

  立命大院・理工

• 中村 尚武

  立命大院・理工

• 黒部 篤彦

  龍谷大理工

• 門谷 英司

  龍谷大理工

• 谷垣 宣孝

  産総研光技術

• 藤平 正道

  東工大生命理工

• 畔原 宏明

  東工大生命理工

• 部屋 学

  阪大院工

• 瀬戸口 善宏

  立命大院理工

• 万 文

  産総研人間系

• 清水 洋

  産業技術総合研究所

• 白石 壮志

  群大:産総研

• 藤平 正道

  東京工業大学生命理工学部生体分子工学科

• 安積 欣志

  独立行政法人産業技術総合研究所 関西センターセル エンジニアリング研究部門 人工細胞研究グループ

• 粟津 邦男

  大阪大学大学院 工学研究科

• 相田 卓三

  東大工:理研

• 清水 洋

  産業技術総合研 関西セ ユビキタスエネルギー研究部門

• 部谷 学

  大阪大学大学院工学研究科自由電子レーザー研究施設

• 福島 孝典

  理研基幹研:東工大資源研

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著作論文

• 2538 カーボンナノチューブ/イオン液体ゲルからなる高分子アクチュエータの電気化学特性(J10-9 高分子・薄膜,J10 知的材料・構造システム)
• 2C09 赤外誘起液晶配向制御 : スメクチックB相のドメイン変化(フォトニクス・光デバイス)
• 2B05 長鎖末端にカルボン酸を有するトリフェニレン液晶における水素結合相互作用の変化と相転移挙動(化学・材料)
• 2B02 Rod-disc形状変化を伴う相転移現象を示す新しいタイプのトリフェニレン液晶(化学・材料)
• 光照射などによる液晶の分子配向制御に関する計算機シミュレーションによる研究(基研研究会「ソフトマターの物理学」,研究会報告)
• 1PA09 Gay-Berne モデルの光応答
• 1B03 波長可変赤外レーザー光照射によるカラムナー液晶の配向変化挙動(化学・材料)
• 1B01 側鎖にフルオロアルキル基を有するトリフェニレンディスコチック液晶の修飾基板上の配向挙動(化学・材料)
• 赤外レーザー光照射によるカラムナー液晶の配向変化挙動
• PB03 ディスコティック液晶の自己組織化膜修飾基板上での配向挙動(化学・材料)
• 2C02 偏光赤外レーザー光照射によるカラムナー液晶の配向挙動(フォトニクス・光デバイス)
• 1B12 側鎖にフルオロアルキル基を持つトリフェニレンの修飾基板上の配向挙動(化学・材料)
• 1B06 長鎖末端間に水素結合相互作用を持つトリフェニレン誘導体における液晶性 : 1官能及び2官能誘導体の比較(化学・材料)
• 2PB28 フルオロアルキル基を導入した新規トリフェニレンの合成とその液晶性

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