高橋 一摩 | FDK株式会社

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概要

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関連著者

• 高橋 一摩

  FDK株式会社

• 高橋 一摩

  豊橋技術科学大学

• 井上 光輝

  豊橋技術科学大学

• 西村 一寛

  豊橋技術科学大学工学部電気電子工学系

• 枦 修一郎

  岐阜大学

• 梅澤 浩光

  FDK株式会社技術開発本部

• 岩崎 勝博

  FDK株式会社

• 山中 哲

  FDK

• 山中 哲

  Fdk株式会社技術開発本部

• 梅澤 浩光

  Fdk株式会社 研究開発部 光デバイス開発部

• 岩崎 勝博

  Fdk

• 梅澤 浩光

  FDK株式会社

• PARK Jae-hyuk

  豊橋技術科学大学

• 梅澤 浩光

  FDK(株)

• 袴田 和喜

  FDK株式会社

• 井上 光輝

  JST-CREST

• 青木 崇

  豊橋技術科学大学

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著作論文

• YIG薄膜における選択成長を用いた磁気分離法の数値解析
• 新選択成長法によるBi置換鉄ガーネットLPE膜の磁気分離
• Ag, B, Cu, Irを添加したFePt合金薄膜の熱処理温度低減
• 急速加熱によるFePt合金薄膜の規則化温度低減
• FePt合金薄膜への第3元素添加効果とArガス圧効果
• 急速加熱によるFePt合金薄膜規則化温度の低減
• FePt合金薄膜の規則化温度低減

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