袴田 和喜 | FDK株式会社

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概要

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関連著者

• 袴田 和喜

  FDK株式会社

• 林 智幸

  Fdk株式会社

• 梅澤 浩光

  FDK株式会社技術開発本部

• 梅澤 浩光

  FDK(株)

• 岩崎 勝博

  FDK株式会社

• 原田 知也

  FDK株式会社

• 山中 哲

  FDK

• 山中 哲

  Fdk株式会社技術開発本部

• 梅澤 浩光

  Fdk株式会社 研究開発部 光デバイス開発部

• 岩崎 勝博

  Fdk

• 梅澤 浩光

  FDK株式会社

• 井上 光輝

  豊橋技術科学大学

• 林 聖子

  Fdk株式会社

• 阪本 祐一郎

  FDK株式会社

• 藤澤 友弘

  FDK株式会社

• 高橋 一摩

  FDK株式会社

• 高橋 一摩

  豊橋技術科学大学

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著作論文

• C-3-150 高次モードカットによるY分岐導波路における分岐比の安定化(導波路型デバイス)(C-3.光エレクトロニクス)
• C-3-14 FDTDによる表面プラズモンポラリトン励起の検討(光伝搬解析)(C-3.光エレクトロニクス)
• C-3-84 2 段階熱イオン交換導波路
• C-3-82 ガウスビームによる金属導波路プラズモン励起の FDTD 解析
• C-3-117 イオン交換法によるHighΔ導波路の作製
• C-3-7 磁性フォトニック結晶のFDTD解析(導波路解析・設計,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• 数値解析によるYIGマイクロセルの低保磁力化と単磁区化の検討
• YIG薄膜における選択成長を用いた磁気分離法の数値解析

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