石井 孝 | 三菱電機中央研究所

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• 高橋 和久

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著作論文

• Two Steps Epitaxial Growth法による界面不純物分布の制御 : 結晶成長一般
• 5)高出力高信頼性PN接合GaAsインパットダイオード(テレビジョン無線技術研究会(第43回))
• 絶縁物基板Si気相成長 : 半導体(結晶成長)

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