納富 雅也 | Ntt物性基礎研:crest-jst

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概要

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関連著者

• 枝川 圭一

  東大生産研

• 納富 雅也

  NTT物性基礎研

• 納富 雅也

  Ntt物性基礎研:crest-jst

• 枝川 圭一

  東大 生産技研

• 今川 成樹

  東大生産研

• 枝川 圭一

  東京大学生産技術研究所

• 新野 俊樹

  東京大学生産技術研究所

• 新野 俊樹

  理化学研究所

• 香川 豊

  東京大学先端科学技術研究センター

• 香川 豊

  東大生研

• 新野 俊樹

  東大

• 香川 豊

  東京大学大学院工学系研究科

• 香川 豊

  東大先端研

• 香川 豊

  東大 先端科学技術研究セ

• 香川 豊

  東京大学先端科学技術研究センター:(現)東京大学生産技術研究所

• 香川 豊

  東京大学生産技術研究所材料界面マイクロ工学研究センター

• 守田 圭祐

  東大生産研

• 新野 俊樹

  東大生産研

• 鹿子 悟史

  東大生産研

• So Y.

  東大生産研

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著作論文

• 22pTR-13 フォトニックアモルファスダイヤモンドにおける3次元フォトニックギャップ形成(領域5,領域1合同 メタマテリアル・フォトニック結晶,領域5,光物性)
• 22pTR-13 フォトニックアモルファスダイヤモンドにおける3次元フォトニックギャップ形成(領域5,領域1合同メタマテリアル・フォトニック結晶,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
• 25aHB-9 フォトニック・アモルファス・ダイヤモンドにおける光禁制帯形成と光局在(25aHB 領域5,領域1合同 フォトニック結晶,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 25aHB-9 フォトニック・アモルファス・ダイヤモンドにおける光禁制帯形成と光局在(25aHB 領域5,領域1合同フォトニック結晶,領域5(光物性))
• 23pTN-7 フォトニック・アモルファス・ダイヤモンドにおける光禁制帯形成と光局在(23pTN 領域5,領域1合同 フォトニック結晶,領域5(光物性))
• 23pTN-7 フォトニック・アモルファス・ダイヤモンドにおける光禁制帯形成と光局在(23pTN 領域5,領域1合同 フォトニック結晶,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• 24aAC-5 誘電体球で構成したPAD構造における光禁制帯形成(24aAC 領域5,領域1合同フォトニック結晶・超イオン導電体,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

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