真砂 啓 | 東大工

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概要

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関連著者

• 渡邉 聡

  東大工

• 真砂 啓

  東北大学wpi-aimr

• 塚田 捷

  東京大学大学院理学系研究科・理学部

• 塚田 捷

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• 塚田 捷

  東京大学理学部

• 塚田 捷

  東京大学理学部物理学科

• 田上 勝規

  アドバンスソフト(株)

• 真砂 啓

  東大工

• Tsukada Mineharu

  Fujitsu Laboratories Inorganic Materials & Polymers Laboratory

• 真砂 啓

  阪大産研

• 塚田 捷

  早稲田大学理工学術院

• 田上 勝規

  早大理工

• 塚田 捷

  早大理工

• 塚田 捷

  早稲田大学大学院

• 渡邉 聡

  東大院工

• 渡邊 聰

  東大 大学院

• 田上 勝規

  早大ナノ理工

• 塚田 捷

  早大ナノ理工

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著作論文

• 24pPSA-25 計算機シミュレーションによるDihydride-Si(001)表面の非接触原子間力顕微鏡像(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSA-96 Si(111)DAS構造の原子間力顕微鏡像のシミュレーション(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 20pTG-2 強束縛近似による水素終端Si表面の原子間力顕微鏡像のシミュレーション(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aYC-7 メチル終端Si表面のAFMシミュレーション(26aYC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 29pYB-4 メチル基不純物を含む水素終端Si表面のAFMシミュレーション(29pYB 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21aPS-45 DFTB法による有機分子/Si表面のSPMシミュレーション(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

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