20pTG-2 強束縛近似による水素終端Si表面の原子間力顕微鏡像のシミュレーション(水素ダイナミクス,微粒子・クラスタ,表面磁性,領域9,表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-02-28

著者

• 渡邉 聡

  東大工

• 真砂 啓

  東北大学wpi-aimr

• 塚田 捷

  東京大学大学院理学系研究科・理学部

• 塚田 捷

  東北大学原子分子材料科学高等研究機構

• 塚田 捷

  東京大学理学部

• 田上 勝規

  早大理工

• 塚田 捷

  早大理工

• 塚田 捷

  東京大学理学部物理学科

• 田上 勝規

  アドバンスソフト(株)

• 真砂 啓

  東大工

• Tsukada Mineharu

  Fujitsu Laboratories Inorganic Materials & Polymers Laboratory

• 真砂 啓

  阪大産研

• 塚田 捷

  早稲田大学大学院

• 塚田 捷

  早稲田大学理工学術院

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