大野 正善 | 日本電信電話(株)茨城電気通信研究所
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概要
関連著者
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大野 正善
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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大野 正善
日本電信電話(株)茨城電気通信研究所
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首藤 義人
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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柳 秀一
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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大野 正善
NTT光エレクトロニクス研究所
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大野 正善
Ntt
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首藤 義人
日本電信電話(株) フォトニクス研究所
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柳 秀一
日本電信電話株式会社NITフォトニクス研究所
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長瀬 亮
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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長瀬 亮
日本電信電話(株)武蔵野研究所
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東野 俊一
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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柳 秀一
NTTフォトニクス研究所
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松井 伸介
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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松井 伸介
日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所
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松井 伸介
日本電信電話(株)
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住田 真
日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所
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住田 真
Ntt フォトニクス研究所
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佐藤 弘次
NTT フォトニクス研究所
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高戸 範夫
日本電信電話公社茨城電機通信研究所
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岩野 真一
NTTアドバンステクノロジ
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佐藤 弘次
NTTエレクトロニクス
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山田 武
日本電信電話(株)茨城電気通信研究所
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高戸 範夫
日本電信電話(株)茨城電気通信研究所
著作論文
- 簡易MUレセプタクル用プラスチックフェルールの光接続特性と信頼性
- 簡易MUレセプタクル用プラスチックフェルールの光接続特性と信頼性
- C-3-121 POF 用 MU 形プラスチックフェルールの検討
- シングルモード用プラスチックフェルールの研磨条件の検討
- シングルモード用プラスチックフェルールの研磨条件の検討
- MU/SC変換アダプタ用プラスチック割りスリーブの光接続特性と信頼性
- ゾルゲル法における溶媒と乾燥過程の乾燥ゲル構造への影響