霍 大成 | AT&Tベル研究所

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概要

• 同名の論文著者
• AT&Tベル研究所の論文著者

関連著者

• 伊藤 信和

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 山田 義明

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 吉川 公麿

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 菊田 邦子

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 霍 大成

  AT&Tベル研究所

• 霍 大成

  At&tベル研究所

• 菊田 邦子

  Nec Ulsi デバイス開発研究所

著作論文

• Alリフローによるコンタクト埋込特性に与えるコンタクト形状およびリフロー下地膜の影響

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