藤井 恒宣 | 関東化学,中研
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概要
関連著者
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北村 輝夫
日立製作所・日立研
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向尾 昭夫
日立日立研
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藤井 恒宣
関東化学,中研
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藤井 恒宣
関東化学 中研
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北村 輝夫
日立,日立研
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向尾 昭夫
日立,日立研
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吉田 正広
関東化学,中研
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鈴木 賢治
関東化学,中研
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鈴木 賢治
関東化学 中研
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吉田 正広
関東化学 中研
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北村 輝夫
日立日立研
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服部 紳太郎
日立日立研
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大川 寿
関東化学,中研
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大森 秀樹
関東化学,中研
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藤井 恒宣
関東化学中研
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大川 寿
関東化学 中研
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大森 秀樹
関東化学 中研
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佐藤 幹夫
日立日立研
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横倉 久男
日立・日立研
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横倉 久男
日立,日立研
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服部 紳太郎
日立,日立研
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佐藤 幹夫
日立,日立研
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鈴木 賢治
関東化学中研
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大森 秀樹
関東化学中研
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吉田 正広
関東化学中研
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大川 寿
関東化学中研
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岡部 義昭
日立日立研
著作論文
- 1J06 新しいネマティック液晶化合物(8) : アルコキシメチルフェニルエステル系3環型液晶の合成と性質
- 1J05 新しいネマティック液晶化合物(7) : アルコキシメチレン基を持つビシクロオクタンカルボン酸フェニルエステル型液晶
- 3V05 新しいネマチック液晶化合物の研究(4) : アルコキシメチレン基を持つ液晶におけるメチレン鎖数と液晶温度の関係
- 3V04 新しいネマチック液晶化合物の研究(3) : ROCH_2-を有するフェニル=シクロヘキサンカルボキシレート型液晶化合物の合成と性質
- 3V03 新しいネマチック液晶化合物の研究(2) : 分子末端にアルコキシメチル基を有するフェニルシクロヘキサン型液晶化合物の合成と性質