尹 大烈 | 古河電気工業株式会社

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概要

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• 古河電気工業株式会社の論文著者

関連著者

• 尹 大烈

  古河電気工業株式会社

• 松浦 寛

  古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所

• 水野 一庸

  古河電気工業株式会社

• 味村 裕

  古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所

• 味村 裕

  千葉大学工学部電子機械工学科

• 畑野 達也

  古河電気工業株式会社

• 松浦 寛

  東北学院大学工学部機械知能工学科

• 松浦 寛

  東北学院大学工学部:古河電気工業株式会社ファイテルフォトニクス研究所

• 松浦 寛

  古河電気工業 (株)

• 味村 裕

  古河電気工業(株)

• 麻生 修

  古河電気工業(株)

• 小野 義視

  古河電気工業株式会社

• 飯田 義隆

  古河電気工業株式会社 ファイテルフォトニクス研究所

• 西 泰宏

  古河電気工業株式会社ファイテルフォトニクス研究所

• 山本 敏郎

  古河電気工業株式会社生産技術開発センター

• 虎谷 智明

  古河電気工業株式会社生産技術開発センター

• 安 〓

  古河電気工業株式会社生産技術開発センター

• 麻生 修

  古河電気工業株式会社 ファイテルフォトニクス研究所

• 小野 義視

  古河電気工業

• 山本 敏郎

  古河電気工業

• 西 泰宏

  古河電気工業 ファイテルフォトニクス研

• 畑野 達也

  古河電気工業株式会社ファイテルフォトニクス研究所

• 飯田 義隆

  古河電気工業

• 風味 創

  古河電気工業株式会社 ファイテルフォトニクス研究所

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著作論文

• 高速利得傾斜補償器の開発(光計測、光部品、一般)
• C-3-116 高速ゲインチルトイコライザ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• エタロン型光利得等化器の開発
• エタロン型光利得等化器の開発
• C-3-40 反射型可変分散補償モジュール
• B-10-181 斜め多重反射素子を用いた可変分散補償器

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