成宮 義和 | TDK開発研究所

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概要

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関連著者

• 成宮 義和

  TDK開発研究所

• 荒木 悟

  Tdk開発研究所

• 宮内 大助

  TDK記録デバイス事業本部

• 宮内 大助

  TDK開発研

• 篠浦 治

  TDK開発研究所

• 荒木 悟

  TDK開研

• 安井 清美

  TDK開研

• 成宮 義和

  TDK開研

• 篠浦 治

  TDK(株)開発研究所

• 篠浦 治

  TDK (株) 開発研究所

• 篠浦 治

  Tdk(株) 開発研究所

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著作論文

• Cu/NiFe/Cu/CoPt人工格子における層間結合とMR特性
• 1a-S-7 Cu/(Co,CoNi,CoFe)/Cu/NiFe人工格子の層間磁気結合とMR効果
• 30p-ZJ-3 強磁性合金/Ag人工格子の反強磁性体結合とMR変化
• 29p-ZJ-1 Co/Ag人工格子の巨大磁気抵抗変化
• 光アイソレ-タ-材料 (オプトエレクトロニクス材料の新展開--光を作り,変換し,送り,処理する)
• 磁性材料 (エレクトロニクスセラミックス--現状と展望)

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