山本 正興 | 北海道大学工学部
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概要
関連著者
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山本 正興
北海道大学工学部
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佐藤 敏一
北海道大学工学部
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山本 正興
北大 工
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柴田 隆行
住友電気工業(株)
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福井 雅千
北海道大学大学院
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柴田 隆行
北海道大学大学院工学研究科
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斎藤 勝政
北海道大学工学部
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斎藤 勝政
北海道大学
著作論文
- RFプラズマCVD法により生成された炭素系薄膜の諸特性
- 高速電鋳ニッケル中に含有される水素の引張り電着応力に対する影響
- 気相ダイヤモンド合成の核生成密度に及ぼすシリコン基板処理の影響
- 非直流電流を使用したニッケルの高速電鋳--電着応力軽減の一方法 (電鋳技術入門)
- 生産性の高いニッケル電鋳
- 高速ニッケル電鋳加工に関する研究 : 流動電解液流速の電着応力におよぼす影響について
- 高速電鋳加工の研究 (第3報) : スルファミン酸ニッケル液の流動電解液中におけるニッケル電鋳加工
- 高速電鋳加工の研究 (第2報) : ワット浴の流動電解液による高速電鋳ニッケルに対する応力減少剤添加の効果
- 高速電鋳加工の研究 (第1報) : ワット浴の流動電解液中におけるニッケル電鋳加工
- 高速ニッケル電鋳加工に関する研究 : 液温の電着応力におよぼす影響について
- 銅の高速電鋳加工に関する研究