多田 宰 | (株)東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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吉村 玲子
(株)東芝研究開発センター
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多田 宰
(株)東芝研究開発センター
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嶋崎 綾子
(株)東芝 セミコンダクター社 半導体プロセス開発第四部
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桜井 宏紀
(株)東芝セミコンダクター社
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嶋崎 綾子
(株)東芝セミコンダクター社
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島崎 綾子
(株)東芝セミコンダクター社
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櫻井 宏紀
(株)東芝 セミコンダクター社
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多田 宰
東芝研究開発センター
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吉村 玲子
東芝研究開発センター
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嶋崎 綾子
(株)東芝 セミコンダクター社
著作論文
- 次世代半導体製造プロセスにおける金属不純物汚染制御 : 新規材料元素の拡散挙動予測(半導体材料・デバイス)
- 次世代半導体製造プロセスにおける金属不純物汚染制御 : 新規材料元素の拡散挙動予測
- 29p-J-6 水素終端Si表面に残存するF原子の消失反応メカニズム : 量子化学的検討