宍戸 厚 | 東京工業大学資源化学研究所
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概要
関連著者
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宍戸 厚
東京工業大学資源化学研究所
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池田 富樹
東京工業大学資源化学研究所
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宍戸 厚
東工大・資源研
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池田 富樹
東工大・資源研
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塩野 毅
東工大・資源研
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塩野 毅
広島大 大学院工学研究科
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塩野 毅
東京工業大学資源化学研究所高分子材料部門
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塩野 毅
広島大学大学院工学研究科
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堤 治
東工大・資源研
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宍戸 厚
東京工業大学
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岡野 久仁彦
東京理科大学理工学部
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岡野 久仁彦
東工大・資源研
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有川 直志
東工大・資源研
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足立 要人
東京工業大学資源化学研究所
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佐藤 弘人
NHK放送技術研究所
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藤掛 英夫
NHK放送技術研究所
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蜂須賀 祐
(株)リサイクルワン 温暖化対策事業部
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蜂須賀 祐
東工大・資源研
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佐藤 大輔
東工大・資源研
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池田 富樹
東京工業大学
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近藤 瑞穂
東京工業大学資源化学研究所
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兪 燕蕾
東工大・資源研
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石川 健太郎
東工大・資源研
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八重樫 将寛
東工大・資源研
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鶴間 建行
東工大・資源研
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最勝寺 綾
東工大・資源研
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池田 幸次朗
東工大・資源研
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石黒 誠
東工大・資源研
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志村 真一郎
東工大・資源研
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藤掛 英夫
NHK技研
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佐藤 弘人
NHK技研
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近藤 瑞穂
東工大・資源研
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前田 健永
東工大・資源研
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山本 里江子
東工大・資源研
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堤 治
東京工業大学資源化学研究所
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栗原 英夫
東工大・資源研
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藤田 賢
東工大・資源研
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足立 要人
東工大・資源研
著作論文
- PD16 チエニルアセチレン部位を有するアゾベンゼン液晶高分子の合成と光応答性(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 3C09 アゾトラン液晶高分子の光応答性におけるメソゲン構造の効果(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 2C08 フェニルアセチレン部位を有する側鎖型高分子アゾベンゼン液晶の回折格子形成挙動(フォトニクス・光デバイス)
- 1C11 アゾベンゼン液晶エラストマーの光屈曲 : ホメオトロピック配向フィルムの光応答性(2004年日本液晶学会討論会)
- 3C07 逆オパール構造体を有する液晶高分子フォトニック結晶の調製と光応答性(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 3C03 オリゴチオフェンドープ液晶の光誘起再配向を利用したマイクロレンズの作製(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 3C02 液晶性高分子微粒子によるフォトニック結晶の調製と光応答性(2004年日本液晶学会討論会)
- 2B02 ドナー・アクセプター型アゾベンゼン部位を有する高分子フィルムにおけるブラッグ回折格子形成挙動(2004年日本液晶学会討論会)
- 1C15 強誘電性液晶モノマーの干渉光重合による回折格子形成(2004年日本液晶学会討論会)
- 1C14 トラン部位を有する高分子アゾベンゼンフィルムにおけるブラッグ回折格子形成挙動(2004年日本液晶学会討論会)
- 1C12 フレキシブル液晶ホログラム : 湾曲可能な高分子フィルムへの三次元画像記録(2004年日本液晶学会討論会)
- 高分子アゾベンゼン液晶フィルムのブラッグ型高回折効率ホログラム (特集 強相関ソフトマテリアルの動的制御(Part2)) -- (第3編 複合機能の時空間制御)
- 2C07 ホログラフィーを利用した高分子周期構造体の作製と光応答性(フォトニクス・光デバイス)
- 2C06 偏光ホログラフィーによる高分子アゾベンゼン液晶の回折格子形成(フォトニクス・光デバイス)
- ナノ秒光応答を示す高分子アゾベンゼン液晶フィルム
- 3A18 アゾベンゼン液晶フィルムを利用した光通信帯域レーザーの光スイッチング挙動(フォトニクス・光デバイス)
- 3A13 高分子アゾベンゼン液晶のホメオトロピック配向セルを用いたホログラム記録(フォトニクス・光デバイス)
- 3A12 高分子アゾベンゼン液晶の光誘起配向変化を利用した偏光回折格子形成(フォトニクス・光デバイス)
- 3A11 ピコ秒レーザーパルスを用いたアゾベンゼン液晶フィルムの高速回折格子形成(フォトニクス・光デバイス)
- 液晶フォーラム講演会液晶フォトニクス・光デバイス研究フォーラム講演会 : インクジェットおよび印刷プロセスによるデバイス創生
- 液晶フォトニクス・光デバイス研究フォーラム講演会 : 先端講座・液晶の情報通信への新しい応用
- 光応答性液晶を利用した光マニピュレーション