宮澤 弘 | セイコーエフソン(株)基盤技術研究所
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概要
関連著者
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宮澤 弘
セイコーエフソン(株)基盤技術研究所
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宮澤 弘
セイコーエプソン(株)
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小口 多美夫
広大院先端
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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林 達哉
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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宮下 悟
セイコーエプソン 基盤技術研究所
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下田 達也
セイコーエプソン 基盤技術研究所
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下田 達也
セイコーエプソン(株)基礎技術研究所
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下田 達也
セイコーエフ゜ソン株式会社 Tprc 第四研究ク゛ルーフ゜
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小口 多美夫
広島大学大学院先端物質科学研究科
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宮下 悟
セイコーエプソン(株)nxd開発部
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宮下 悟
セイコーエプソン
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加久 泰隆
広大院先端
著作論文
- 24aZ-10 絶縁性酸化物/導電性酸化物 : 超格子の電子状態
- 第一原理計算によるペロブスカイト型物質の設計
- 24aJ-9 ホイスラー合金の磁気光学効果の第一原理計算
- 24aJ-8 クロムスピネルの電子状態と磁気光学効果
- 23pTK-4 第一原理計算からみた強誘電体(領域10シンポジウム主題:強誘電体結晶の静電ポテンシャル分布,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)