宮澤 弘 | セイコーエフソン(株)基盤技術研究所

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概要

• 同名の論文著者
• セイコーエフソン(株)基盤技術研究所の論文著者

関連著者

• 宮澤 弘

  セイコーエフソン(株)基盤技術研究所

• 宮澤 弘

  セイコーエプソン(株)

• 小口 多美夫

  広大院先端

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 野中 源一郎

  九州大学薬学部

• 林 達哉

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 宮下 悟

  セイコーエプソン 基盤技術研究所

• 下田 達也

  セイコーエプソン 基盤技術研究所

• 下田 達也

  セイコーエプソン(株)基礎技術研究所

• 下田 達也

  セイコーエフ゜ソン株式会社 Tprc 第四研究ク゛ルーフ゜

• 小口 多美夫

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 宮下 悟

  セイコーエプソン(株)nxd開発部

• 宮下 悟

  セイコーエプソン

• 加久 泰隆

  広大院先端

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著作論文

• 24aZ-10 絶縁性酸化物/導電性酸化物 : 超格子の電子状態
• 第一原理計算によるペロブスカイト型物質の設計
• 24aJ-9 ホイスラー合金の磁気光学効果の第一原理計算
• 24aJ-8 クロムスピネルの電子状態と磁気光学効果
• 23pTK-4 第一原理計算からみた強誘電体(領域10シンポジウム主題:強誘電体結晶の静電ポテンシャル分布,領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

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