渡邊 幸志 | 産総研:crest科技機構

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概要

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関連著者

• 渡邊 幸志

  産総研:crest科技機構

• 大串 秀世

  産総研:crest科技機構

• 渡邊 幸志

  産業技術総合研究所新炭素系材料開発研究センター

• 大串 秀世

  産業技術総合研究所新炭素系材料開発研究センター

• 菅野 正吉

  茨城大,産総研

• 菅野 正吉

  茨城大 産総研

• 大串 秀世

  産業技術総合研究所ダイヤモンド研究センター

• 渡邊 幸志

  産業技術総合研究所

• 渡邊 幸志

  産総研

• 菅野 正吉

  CREST科技機構

• 大串 秀世

  産総研

• 市野瀬 英喜

  東京大学工学系研究科

• 市野瀬 英喜

  東京大学生産技術研究所

• 竹内 大輔

  産業技術総合研究所新炭素系材料開発研究センター

• 沢田 英敬

  東京大学工学系研究科

• 竹内 大輔

  産業技術総合研

• 竹内 大輔

  (独)産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門:CREST c/o 産総研

• 竹内 大輔

  (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門

• 関ロ 隆史

  物質材料研究機構ナノマテリアル研究所

• 三宅 圭一

  東京大学新領域創成科学研究科

• 山中 貞則

  産業技術総合研究所新炭素系材料開発研究センター

• 菅野 正吉

  産業技術総合研究所

• 山中 貞則

  産業技術総合研

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著作論文

• 28pXQ-6 高品質ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の高密度エキシトン状態からの非線形発光現象(励起子ポラリトン・緩和励起子)(領域5)
• 22aTB-5 高品質ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の高密度エキシトン状態からの発光
• 高品質ダイヤモンド膜中欠陥の CL とHRTEM観察
• ダイヤモンド/金属界面の高分解能電顕写真
• 大電流電子照射によるダイヤモンドからの光放射
• 科学解説 ホモエピタキシャル成長による高品質ダイヤモンド薄膜--平坦化機構と高品質化機構

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