榎本 正 | 住友電気工業株式会社横浜研究所
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概要
関連著者
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榎本 正
住友電気工業株式会社横浜研究所
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茂原 政一
住友電気工業株式会社横浜研究所
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住友電気工業 横浜研
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大阪府立大学先端科学研究所
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住友電気工業
著作論文
- ファイバグレーティングの耐放射線特性
- ファイバグレーティングの加熱経時変化
- 水素添加ガラスの光誘起屈折率変化
- 位相格子を用いたファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングを用いた縦単一モードLD
- 被覆上照射ファイバグレーティング
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析(超高速・大容量光伝送/処理,波分散,及びデバイス技術,一般)
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- C-3-90 高信頼性の被覆上照射長周期グレーティング
- C-3-55 長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性
- 残留応力緩和型長周期グレーティング
- ファイバグレーティングの耐放射線特性 : 低線量率放射線照射実験と長期安定性予測
- 残留応力緩和により純シリカコアファイバに作製した長周期光ファイバグレーティング
- C-3-53 被覆上から作製したファイバグレーティング
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析