林 宏 | 日本電気株式会社

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著作論文

• 拡散に於ける不純物の表面濃度と蒸気圧(II)(半導体(拡散,エピタキシー)
• 4p-A-3 拡散に於ける不純物の表面濃度と蒸気圧(I)
• Ge及びSiのEpitaxial Growth : 半導体
• Ge dendrite中の不純物分布 : 半導体
• 3p-G-8 不純物拡散に於けるgetter作用

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