佐々木 高幸 | 横国大工

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概要

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  横浜国大・工

• 保原 大介

  京大院工

• 佐々木 高幸

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著作論文

• 二成分チオール混合単分子膜の部分的還元脱離と選択的置換を用いたチオール混合状態の制御
• 金(111)面に形成した二成分チオール混合膜上の接触角に対する膜構造の影響
• 金電極上に形成された二種類のチオールからなる自己組織膜のサイクリックボルタンメトリー
• 炭化水素鎖末端にSH基を持つホスファチジルコリン単分子膜のホスホリパーゼDによる加水分解

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