今林 慎一郎 | 横浜国大・工
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概要
関連著者
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今林 慎一郎
横浜国大・工
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保原 大介
京大院工
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仁木 克己
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横浜国立大学工学部
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佐々木 高幸
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佐藤 公治
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権 成俊
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佐藤 公治
横浜国大工
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小澤 潔
横浜国大・工
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阿久津 秀雄
横浜国大・工
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海津 肇子
横浜国大・工
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熊谷 次郎
横浜国大・工
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Tsapin A.I.
カリフォルニア工科大
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Nealson K.H.
カリフォルニア工科大
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佐々木 高幸
横浜国大工
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飯田 峰彦
横国大工
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小澤 潔
阪大・蛋白研
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Tsapin A.
カリフォルニア工大
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Nealson K.
アリゾナ大
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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垣内 隆
京大院工
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垣内 隆
横浜国立大学工学部物質工学科
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原田 英里砂
横浜国大・工
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Tsapin A.
カリフォルニア工科大
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Nealson K.
カリフォルニア工科大
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三田 貴博
横国大工
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馮 志強
横国大工
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飯田 峰彦
横浜国大工
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AMOLD O
横浜国立大学
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FUENFSTUECK Britta
横浜国立大学
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保原 大介
横浜国立大学
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今林 慎一郎
横浜国立大学
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仁木 克巳
横浜国立大学
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KNOLL Wolfgang
MPI Mainz
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三宅 広一郎
横浜国大工
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原田 英里砂
阪大・蛋白研・機能構造 : Jbic
著作論文
- 2PA086 Shewanellaチトクロムc_3の酸化還元電位と軸配位子
- 2PA084 S. putrefaciens cytochrome c_3の巨視的酸化還元電位の解析
- ポルタンメトリーで診るナノスケールの世界 -金電極上におけるチオール自己組織膜の還元的脱離-
- 二成分チオール混合単分子膜の部分的還元脱離と選択的置換を用いたチオール混合状態の制御
- 金(111)面に形成した二成分チオール混合膜上の接触角に対する膜構造の影響
- 表面リジン残基を化学修飾したチトクロムcのチオール修飾金電極上での酸化還元反応
- 金電極上に形成された二種類のチオールからなる自己組織膜のサイクリックボルタンメトリー
- 炭化水素鎖末端にSH基を持つホスファチジルコリン単分子膜のホスホリパーゼDによる加水分解
- Au(111)面上に形成したチオール自己組織化単分子膜の構造と膜上に吸着したチトクロムcの電極反応
- 金電極表面上に吸着したチオール自己組織化混合膜の相分離
- 画像処理を用いるチオール自己組織化膜の接触角測定
- チオール修飾金電極におけるチトクロムcの電極反応速度のpH依存性
- Au(111)面に吸着したチオール単分子膜におけるチオール分子の交換反応
- アルカンチオール自己組織膜中の異なる位置に組み込まれたビオロゲンの電気化学反応
- 金(111)面に吸着した解離基を末端に持つチオール単分子膜のpKaシフト
- pH-dependence of STM-images of 4-PyS assemblies on Au(111) surfaces
- チトクロムc_3吸着金(111)面のSTM測定