寺西 正行 | 協和醗酵工業株式会社東京研究所
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概要
関連著者
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寺西 正行
協和醗酵工業株式会社東京研究所
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沖井 三孔
協和醗酵工業株式会社東京研究所
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寺西 正行
協和醗酵工業 (株) 東京研究所
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竹松 哲夫
宇都宮大学
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近内 誠登
宇都宮大学
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沖井 三孔
協和醗酵工業株式会社医薬研究開発部
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松隈 征夫
協和醗酵工業株式会社東京研究所
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沖井 三孔
協和醗酵
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近内 誠登
宇都宮大・農
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竹松 哲夫
宇都宮大・農
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近内 誠登
宇大農雑防研
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松隈 征夫
協和醗酵
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寺西 正行
協和醗酵東京研
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沖井 三孔
協和醗酵東京研
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竹松 哲夫
宇大農雑防研
著作論文
- アミノ酸系化合物の除草活性 : 第4報 3-(3,4-Dichlorophenyl)-1methyl dihydrouracil (DCMD) の除草作用特性
- アミノ酸系化合物の除草活性 : 第3報 1-アルキル-3-(置換フェニル)ジヒドロウラシルおよびその他のアミノ酸誘導体の除草活性
- アミノ酸系化合物の除草活性 : 第2報 N-置換フェニルカルバモイルアミノ酸誘導体の除草活性
- アミノ酸系化合物の除草活性 : 第1報 チオカルボニルアミノ酸誘導体の除草活性
- 除草活性物質N-置換フェニルカルバモイルβ-アラニン誘導体の構造活性相関
- 27 除草活性物質CD,MCMDとその薬害軽減剤OMのヒル反応,循環式光燐酸化反応に及ぼす影響
- 茎葉処理型薬害軽減剤 Octamethylenediamine(OM)に関する研究 : 第2報 除草活性物質N-(3,4-dichlorophenylcarbamoyl)-N-methyl glycine・H_2O(CD)及びCD類縁体に対するOMの効果
- 茎葉処理型薬害軽減剤 Octamethylenediamine(OM)に関する研究 : 第1報 除草活性物質N-(3,4-dichlorophenylcarbamoyl)-N-methyl glycine・H_2O(CD)に対するアミン系化合物の効果
- 30. 茎葉処理型薬害軽減剤Octamethylenecliamine(OM)の作用性 : (その1) 除草活性物質N-(3,4-dichlorophenylcarbamoyl)-N-methyl-glgcine(CD)にタイするOMの効果
- 39. 除草活性物質N-(3,4-clichleiophenglcurbamoyl)-N-melhyl-glycinlの薬害軽減剤
- 38. 除草活性物質N-(3,4-clichleiophenglcurbamoyl)-N-melhyl-glycinlの除草作用特性