山口 智彦 | 独立行政法人産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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山口 智彦
独立行政法人産業技術総合研究所
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山口 智彦
独立行政法人産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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真原 仁
独立行政法人産業技術総合研究所
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末松 J
独立行政法人産業技術総合研究所
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大金 邦成
九州大学数理学研究院
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西浦 廉政
北海道大学電子科学研究所
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下村 政嗣
北海道大学電子科学研究所
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下村 政嗣
科学技術振興機構
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下村 政嗣
北海道大学
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西浦 康政
北海道大学電子科学研究所
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西浦 廉政
京都産業大学計算機科学研究所
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下村 正嗣
東北大学多元物質科学研究所
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真原 仁
科学技術振興機構
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大金 邦成
ファインセラミックセンター
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大金 邦成
独立行政法人産業技術総合研究所
著作論文
- パターン形成の熱力学的指標による評価 (散逸系の数理 : パターンを表現する漸近解の構成)
- 3分子反応系の数理モデル : その背景と意義 (散逸系の数理 : パターンを表現する漸近解の構成)
- 可逆グレイスコットモデルを用いたパターン形成におけるエントロピー生成速度の計算 (非線形現象の実験解析と数理解析)
- A Mathematical model of SWNT growth (Experimental and Mathematical Analysis for Nonlinear Phenomena)
- Three-variable reversible Gray–Scott model