熊谷 正芳 | 武蔵工大院
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概要
関連著者
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秋田 貢一
武蔵工大
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秋田 貢一
東京都市大学
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大谷 眞一
武蔵工業大学
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草野 英二
金沢工業大学
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草野 英二
金沢工大 高度材料科学研開セ
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大谷 眞一
武蔵工大
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熊谷 正芳
浜松ホトニクス(株)
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熊谷 正芳
武蔵工大院
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草野 英二
金沢工大
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草野 英二
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター
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秋田 貢一
武蔵工業大学 工学部 機械システム工学科
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萩原 芳彦
武蔵工大
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萩原 芳彦
武蔵工業大学機械システム工学科
著作論文
- 201 Cu薄膜の真性応力におよぼす基板の表面エネルギーの影響(薄膜の応力測定,残留応力の評価と強度,オーガナイスドセッション3,第53期学術講演会)
- 302 Cu薄膜の機械的性質および残留応力の評価(機能性材料の残留応力評価)(残留応力の評価と適用)(オーガナイスドセツション2)