村越 篤 | (株)東芝研究開発センターulsi研究所

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概要

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関連著者

• 村越 篤

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 水島 一郎

  (株)東芝 研究開発センター

• 水島 一郎

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 渡辺 正晴

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 柏木 正弘

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 柏木 正弘

  (株)東芝 Ulsi 研究所

• 渡辺 正晴

  コマツ電子金属株式会社研究開発センター物性研究室

• 水島 一郎

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

著作論文

• シリコン中における高濃度ボロンの固溶状態

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