本間 格 | (独)産業技術総合研究所電力エネルギー研究部門

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関連著者

• 本間 格

  (独)産業技術総合研究所電力エネルギー研究部門

• 周 豪慎

  電総研

• 本間 格

  電総研

• 周 豪慎

  (独)産業技術総合研究所電力エネルギー研究部門

• 本間 格

  産業技術総合研

• 山田 健郎

  東大院工

• 浅井 圭介

  東大院工

• 周 豪慎

  産総研

• 桑原 誠

  東大工

• 本間 格

  産総研

• 勝部 昭明

  埼玉大工

• 内田 秀和

  埼玉大学

• 桑原 誠

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 山田 健郎

  (独)産業技術総合研究所電力エネルギー研究部門

• 遠藤 明

  産業技術総合研 環境調和技術研究部門

• Zhou H‐s

  National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. (aist) Ibaraki

• 宮沢 薫一

  東大工

• 山田 健郎

  産業技術総合研

• 内田 秀和

  埼玉大

• 富田 雅人

  NTT

• 桑原 誠

  東京大学大学院工学系研究科

• 勝部 昭明

  埼玉大学理工学研究科

• 勝部 昭明

  埼玉大学工学部情報システム工学科

• 内田 秀和

  埼玉大学工学部

• 内田 秀和

  埼玉大学大学院理工学研究科

• 三戸 章裕

  計量研究所熱物性部

• 宮山 勝

  東大院工

• 工藤 徹一

  東大院工

• 富田 雅人

  日本電信電話(株)NTT生活環境研究所

• 上野 祐子

  日本電信電話(株)NTT生活環境研究所

• 内田 秀和

  埼玉大工

• 富田 雅人

  NTT生活環境研究所

• 周 豪慎

  産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門

• 宮澤 薫一

  東京大学大学院工学系研究科

• 富田 雅人

  Ntt基礎技術総合研究所

• ユン ヒスク

  東大工

• 宮澤 薫一

  東京大学大学院工学系研究科材料学専攻

• 宮沢 薫一

  東京大学工学部材料学科

• 尹 煕淑

  東京大学大学院工学系研究科材料学専攻

• 本間 格

  産業技術総合研究所

• 本間 格

  電子技術総合研究所

• 本間 格

  (独)産業技術総合研究所エネルギー技術研究部門

• 浅井 圭介

  東大工

• 富田 雅人

  Ntt 生活環境研

• 中岩 勝

  物質研

• Uchida H

  Department Of Chemistry Faculty Of Science And Technology Sophia University

• 本間 格

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 遠藤 明

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 周 豪慎

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 渡辺 崇

  東大工

• 石榑 顕吉

  東大工

• 遠藤 明

  物質研

• 中根 堯

  物質研

• 八木 康洋

  東大院工

• 石榑 顕吉

  東大院工

• 周 豪慎

  電子技術総合研究所

• 周 豪慎

  (独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門 ェネルギー界面技術グループ

• Uchida Hirohisa

  Department Of Energy Science And Engineering School Of Engineering Tokai University

• 富田 雅人

  Ntt基礎総合技術研究所

• Uchida H

  Institute Of Observational Research For Global Change Japan Agency For Marine-earth Science And Tech

• 周 豪慎

  産業技術総合研究所

• 勝部 昭明

  埼玉大学工学部

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著作論文

• 均一細孔と規則構造を有するメソポーラス材料のSurface Photo Voltage(SPV)型NO,NO_2ガスセンサーへの応用
• 1B07 メソポーラスシリカ膜の SPV 型 NO_x センサーへの応用 (I)
• 1G21 メソポーラス構造 TiO_2 材料の合成とその物性評価
• 2B14 トリブロックコポリマーをテンプレートにしたメソ構造 TiO_2 薄膜の合成 (II)
• メソ構造チタニア薄膜の形成における結晶化の影響(セラミックスインテグレーション)
• 分子テンプレートを用いたメソポーラス薄膜作製プロセス
• 2B03 トライブロックコポリマーを用いたメソポーラスシリカの合成 (III)
• 2F06 ゾルゲル法によるシアニン色素会合体ドープシリカ薄膜の作製と光学特性
• 2C18 自己組織化を利用した遷移金属酸化物のメソストラクチャー薄膜の合成と相転移 (II)
• 2C15 スピンキャスト法を用いたメソポーラスシリカ薄膜の作成と物性
• 2C10 低温熱処理によるバナジアー界面活性剤複合体メソ構造の相変態
• 1C01 トライブロックコポリマーを用いたメソポーラスシリカの合成
• 高い光非線型係数(3.5×10-6esu)を持つJ会合体の薄膜の簡単な合成方法
• 1I04 Lamellar, Hexagonal メソポーラスシリカ薄膜の作成と構造安定性
• 1I03 フェロセン界面活性剤による自己組織的な層状 SiO_2 の合成と電気物性
• 1I02 色素含有界面活性剤を用いたメソポーラスシリカの合成と物性
• 1I01 色素ドープ・自己組織構造セラミックスの合成と物性
• メソポーラスシリカを用いたSurface Photo Voltage型N0xガスセンサ

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