大谷 寿幸 | 金沢工業大学
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概要
関連著者
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大谷 寿幸
金沢工業大学
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草野 英二
金沢工業大学
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草野 英二
金沢工大 高度材料科学研開セ
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草野 英二
金沢工大
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村上 英生
東洋紡績株式会社フィルム開発研究所
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大谷 寿幸
東洋紡績株式会社フィルム開発研究所
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森重 地加男
東洋紡績株式会社フィルム開発研究所
著作論文
- 高周波プラズマ支援スパッタリング法によるインジウム-スズ酸化物(ITO)薄膜の構造および物性制御
- 高周波プラズマ支援スパッタリング法によるTi薄膜の構造および物性制御
- ポリエステルフィルムへの酸化物薄膜の密着性