田之上 健一郎 | 山口大院

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概要

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関連著者

• 西村 龍夫

  山口大院

• 田之上 健一郎

  山口大院

• 田之上 健一郎

  山口大学

• 西村 龍夫

  山口大学大学院理工学研究科

• 西村 龍夫

  山口大学 工学部機械工学科

• 西村 竜夫

  広島大 工

• 田村 豊佳

  山口大院

• 西村 龍夫

  山口大学

• 林 達也

  山口大院

• 谷口 美希

  中外炉工業株式会社

• 笹内 謙一

  中外炉工業株式会社

• Wijayanti Widya

  山口大学

• 谷口 美希

  中外炉工業(株)開発センター環境対策グループ

• 吉田 篤史

  山口大

• 原 真澄

  山口大院

• 佐藤 健喜

  山口大

• 高柳 誠

  山口大院

• 吉冨 雅明

  山口大院

• 笹内 謙一

  中外炉工業(株)

• 川中 隆司

  山口大学

• 山崎 慶

  山口大院

• 川中 隆司

  山口大院

• 吉田 篤史

  山口大院

• Wijayanti Widiya

  山口大院

• 松本 彬

  山口大院

• 竹本 裕紀

  山口大院

• 小倉 佑斗

  山口大院

• 山崎 慶

  山口大学

• 笹内 謙一

  中外炉工業

• 谷口 美希

  中外炉工業

• 山本 浩輝

  山口大院

• 相馬 茂治

  山口大院

• 佐藤 友昭

  山口大院

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著作論文

• 503 コロナ放電によって生じる電気流動現象の湿度依存性(流体工学IV)
• G111 レーザースペックル法による反応面近傍の密度分布測定(対流伝熱促進・制御I)
• A221 振動予混合火炎の温度分布測定に関する研究(燃焼科学と技術の新展開VI)
• B111 固体充填層の昇温過程における減容速度の成分種依存性(持続可能なバイオマス利用)
• C214 熱CVD法によるTiN膜成長速度に関する実験的研究(マイクロ・ナノスケールの熱輸送現象III)
• D214 熱CVD法によるTiN薄膜の成長速度における流速依存性に関する研究(OS-2:複合対流)
• 1409 液相反応における局所密度変化が反応面進行へ及ぼす影響に関する研究(熱工学II)
• 1413 レーザースペックル法による反応界面近傍の密度および温度分布測定(熱工学III)

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