溝口 計 | ギガフォトン(株)

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概要

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関連著者

• 溝口 計

  ギガフォトン(株)

• 溝口 計

  ギガフォトン

• 溝口 計

  ギガフォトン(株)要素開発部

• 藤本 准一

  ギガフォトン(株)

• 内野 喜一郎

  Kyushu University

• 内野 喜一郎

  九州大学大学院総合理工学研究院

• 若林 理

  (株)小松製作所 研究本部第二イノベーションセンター

• 越智 秀臣

  ギガフォトン(株)製造部

• 川筋 康文

  ギガフォトン(株)

• 田中 智史

  ギガフォトン(株)

• 對馬 弘朗

  ギガフォトン(株)

• 松永 隆

  ギガフォトン(株)

• 内野 喜一郎

  九州大学大学院 総合理工学研究院

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著作論文

• レーザー学会産業賞を受賞して : 高出力ArFエキシマレーザー開発の経緯
• 半導体露光用エキシマレーザー・EUV光源の過去, 現状そして将来
• リソグラフィー用KrFエキシマレーザーの出力スペクトルの高精度評価
• リソグラフィ用ArFエキシマレーザーの現状と将来
• リソグラフィ用ArFエキシマレーザー光源およびEUV光源の開発の現状
• はじめに(リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
• 次世代リソグラフィ紫外ガスレーザーの現状と開発の方向
• F2レーザリソグラフィの課題とレーザ光源開発への取り組み (特設記事 21世紀を創るエレクトロニクス技術)
• 次世代リソグラフィ紫外ガスレーザーの現状と開発の方向
• F_2レーザーの現状とリソグラフィー応用への展望
• リソグラフィ用F_2レーザー
• レーザー生成プラズマ極端紫外光源の高出力・長寿命化技術

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