下川 澄雄 | 日本大学理工学部
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概要
日本大学理工学部 | 論文
- 超伝導デバイス応用を目指した「界面超伝導」への期待(材料, 一般)
- ディッピング法によって溶液から析出するC_結晶成長 : ハイパフォーマンス・ナノスケール電界効果型C_トランジスタの簡易作製を目指して(薄膜プロセス・材料,一般)
- RFマグネトロンスパッタ法によるCr_2O_3薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 超伝導デバイス応用を目指した電気磁気効果を示す酸化物薄膜の作製(デジタル,一般)
- 23aPS-2 Cr_2O_3薄膜のエピタキシャル成長(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))