吉川 和宏 | 日立GEニュークリア・エナシ゛ー

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概要

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論文 | ランダム

• 26aB02P プラズマイオン注入における正パルスバイアス法の提案とイオンエネルギー(プラズマ基礎・応用)
• プラズマイオン注入におけるトレンチ形状基材のシースの形成と動的挙動
• プラズマイオン注入(PBII)における正パルスバイアス法の試み
• プラズマイオン注入(PBII)の三次元形状基材におけるシースの挙動とイオン電流
• プラズマイオン注入における基材の三次元形状効果

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