中島 健作 | イビデン株式会社

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概要

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• イビデン株式会社の論文著者

イビデン株式会社 | 論文

• マグネトロンスパッタ法によって作製したSi系水素化非晶質半導体薄膜の特性
• 放電加工電極用グラファイト材料について
• 放電加工用グラファイト電極材料の特性
• MOVPE法による厚膜AlN成長(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• MOVPE法による厚膜AlN成長(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))

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