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長谷場 七郎 | 日鉄化学工業 (株)
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電磁力によるSi融液の回転 : 融液物性II
カスプ磁場印加法により育成したSi単結晶中の酸素濃度変動
シリコン単結晶製造時における融液の流れ
27pA3 CZ単結晶育成中におけるSi融液対流速度の垂直磁場による変化(バルク結晶成長シンポジウムII)(バルク結晶成長シンポジウム : バルク単結晶の新しい融液成長技術)
ビジネス問題に適用可能な記憶に基づく推論
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