喜多 隆介 | 静大工
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概要
関連著者
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喜多 隆介
静大工
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吉田 隆
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名古屋大学大学院工学研究科エネルギー理工学専攻
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一瀬 中
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Mele Paolo
九工大
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Muralidhar M
Istec-srl
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九州大学大学院工学研究院材料工学部門
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一野 祐亮
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財団法人 電力中央研究所
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名古屋大学大学院工学研究科エネルギー理工学専攻
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名古屋大学大学院工学研究科エネルギー理工学専攻
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名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
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向田 昌志
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一野 祐亮
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京大院工
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Mukaida M
Department Of Materials Science And Engineering Kyushu University
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MUKAIDA Masashi
NTT System Electronics Laboratories
著作論文
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- ErBa_2Cu_3O_薄膜中におけるBa(Er_Nb_)O_3ナノロッドの成長機構とピンニング効果
- ナノロッドを導入したYBCO超電導薄膜の磁場中特性
- 異なる作製プロセスを用いたBaZrO_3添加Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の磁束ピンニング特性
- 微細組織観察によるナノロッドの成長機構の一考察
- BaZrO_3ナノロッドを含む超電導膜の微細組織制御と超電導特性
- 種々の次元性の人工ピンによる磁束量子のピン止め
- 構造を制御したBZOナノロッドを有する超電導膜の微細構造
- PLD-YbBa_2Cu_3O_y膜のJ_cに及ぼす膜厚、ターゲットの影響
- 不純物ドープしたPLD-ErBa_2Cu_3O_y薄膜の超伝導特性