大里 啓孝 | (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

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概要

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• (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門の論文著者

関連著者

• 大里 啓孝

  (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 横島 時彦

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 伊藤 佐千子

  (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 仲川 博

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 菊地 克弥

  (独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体

• 仲川 博

  (独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体

• 青柳 昌宏

  (独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体

• 青柳 昌宏

  独立行政法人 産業技術総合研究所

• 瀬川 繁昌

  (株)ピーアイ技術研究所

• 横島 時彦

  (独)産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門

• 青柳 昌弘

  (独)産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門光・電子SI連携研究体

• 田村 祐一郎

  独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門

• 伊藤 佐千子

  (独)産業技術総合研究所

• 青柳 昌宏

  東京理科大学大学院:独立行政法人産業技術総合研究所

• 青柳 昌宏

  (独)産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門

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著作論文

• CS-4-3 LSIチップ接続用高速高密度配線インターポーザ(CS-4.光インターコネクション技術の最新動向,シンポジウム)
• 感光性ポリイミドを用いた10Gbps高密度微細配線インターポーザの作製プロセス
• 精密めっき法による高密度微細多層配線の作製 (MEMS 2006 第16回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集)

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