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佐藤 功 | 東京応化工業
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東京応化工業 | 論文
ポジ型レジスト特性に及ぼす溶剤の影響
誘導結合型プラズマ質量分析法による超大規模集積回路用ホトレジスト溶液中のナトリウム及び鉄の定量
電子線レジスト-2-ポリn-ブチルメタクリラ-ト(Pn-BMA)の高解像度化の試み
電子線レジスト-1-ポリn-ブチルメタクリラ-ト(Pn-BMA)の特性と高感度現像液の検討
n型有機トランジスタにおける絶縁層/半導体層界面,及び半導体層/電極界面に関する検討(有機新材料,一般)
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