佐藤 幸司 | 旭化成株式会社基盤技術研究所

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概要

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• 旭化成株式会社基盤技術研究所の論文著者

旭化成株式会社基盤技術研究所 | 論文

• Ge濃度を制御したSi_Ge_xの格子定数測定
• 28aXM-8 収束電子回折法による局所歪み測定法の研究IV(X線・粒子線(電子線))(領域10)
• 22aXB-5 収束電子回折法による局所歪み測定法の研究 III
• 収束電子回折法による局所歪み測定法の研究
• 30pXD-10 収束電子回折法による局所歪み測定法の研究 II

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