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斎藤 正男 | 東大・工・電子
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東大・工・電子の論文著者
東大・工・電子 | 論文
SiのLPE法による横方向成長
SiのLPE横方向エピタキシャル成長 : 液相エピキタシー
MBEによるアモルファスGaAsバッファー層を用いたSi基盤上へのGaAs成長
パルス供給エピタキシ法を用いたGaAsの選択成長 : 無機結晶II
LPEマクロステップの定常形について : 液相エピキタシー
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