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応用物理学会 | 論文
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- β線によつて発生する制動輻射および特性X線
- β線によるX線分光分析
- BT処理によるSi-SiO2界面準位の発生機構と分布
- 極限計測と帰無実験 (計測特集号)
- 音響ノイズの除去 (雑音のシ-ルドと除去(技術ノ-ト))
- 防振技術 (雑音のシ-ルドと除去(技術ノ-ト))
- イオン束を制御した水素化アモルファスシリコンの生成と成膜過程
- 吸着
- プルーブ法 (洩れ探し法(技術ノート))
- 超高真空技術(最近の展望)
- アポロ11号の成功に想う (光学-35-(特集))
- 流れによるセッケン2分子膜構造の秩序化
- 表面温度パターンの計測 (新しい温度計(技術ノート))
- 温度パターン分析と相関技術 (相関技術(技術ノート))
- 複合酸化物結晶(最近の展望)
- 強誘電体5PbO・3GeO2旋光性と強誘電性(研究ノート)
- ロックインアンプおよびボックスカー(微少ビーム電流の測定 技術ノート)
- 分子線を用いた吸着現象の研究
- イオンビ-ムによる化学発光