Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Si-Rich Silicon Nitride Films Optimized for Waveguide-Based Sensing Applications in the Visible Range
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概要
著者
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Zermatten Pierre-Jean
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada
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Jaouad Abdelatif
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada
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Blais Sonia
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada
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Gorin Arnaud
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada
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Aimez Vincent
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada
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G. Charette
Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 2R1, Canada