45nm以降のデバイス向けクラスターイオン注入装置:CLARIS
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概要
兵庫県立大学工学研究科イオン光学研究室 | 論文
- 特集 ガスクラスターイオンビームを利用した微細加工 ガスクラスターイオンビーム(GCIB)を利用した高精度ナノ加工
- Surface roughness reduction using gas cluster ion beams for Si photonics
- クラスターイオンと固体表面との相互作用--表面衝突現象、照射効果
- ミストCVD法による酸化薄膜の成膜
- Planarization of bit-patterned surface using gas cluster ion beams